第168章 光刻机新进展

天宇科技被突如其来的订单推动着高速运转。那仅有的三套光刻机生产线,如同瓶颈一般,制约着芯片生产的规模与速度。林宇再次踏入姜老的实验室,心中满是对光刻机技术进展的期待。

实验室里一如既往地弥漫着严谨而专注的氛围。各种仪器设备发出轻微的嗡嗡声,仿佛在诉说着研发工作的紧张与忙碌。姜老正站在一块巨大的白板前,上面画满了复杂的光路图和技术参数,他正和几位年轻的研究员热烈地讨论着。

看到林宇进来,姜老脸上露出一丝欣慰的笑容:“林总,你又来关心光刻机的进展了。”

林宇急切地回应道:“姜老,这订单压力实在太大了,光刻机的产量直接关系到我们能否按时交付产品啊。上次那100纳米光刻机技术现在进展得怎么样了?”

姜老放下手中的笔,带着林宇走到一台大型设备前。这台设备被各种线缆和防护装置包裹着,看起来充满了科技感。

“林总,你看,自从上次你来过后,我们在100纳米光刻机技术上又取得了不少关键的进展。”姜老一边说,一边示意助手打开设备的展示模式。

设备的显示屏上开始出现各种数据和模拟动画。姜老指着屏幕上的一个部件模型解释道:“这是我们重新设计的光刻镜头,在你给我们的技术基础上,我们进一步优化了镜头的光学结构。现在这个镜头的数值孔径提高了不少,能够更有效地收集和聚焦光线,这对于提高光刻分辨率至关重要。”

林宇看着屏幕上复杂的结构模型,心中满是惊喜:“姜老,这看起来很了不起啊。那这个镜头在实际测试中的表现如何呢?”

姜老微微一笑,带着林宇来到一个测试间。测试间里,一台小型的光刻实验设备正在运行。透过观察窗,可以看到微弱的光线在芯片样本上精确地刻蚀着微小的电路图案。

“林总,我们已经进行了多次实际测试。这个新镜头在100纳米尺度下的光刻精度已经非常稳定了。它能够清晰地刻出复杂的电路结构,而且在不同的芯片材料上都表现出了良好的适应性。”姜老自豪地说道。

林宇心中的一块大石头落了地:“姜老,这真是个好消息。那EUV光源的稳定性问题呢?上次您提到这个是一个关键的挑战。”

姜老的表情变得严肃起来:“林总,EUV光源的稳定性我们也有了很大的改善。你还记得上次我们调整了光源的激发频率和能量输入方式吗?在那之后,我们又对光源的内部结构进行了优化。”

姜老带着林宇来到一个单独的房间,里面摆放着一个巨大的EUV光源装置。装置周围布满了各种监测仪器,数据在屏幕上不断跳动。

“我们改进了EUV光源的等离子体产生机制,通过精确控制电子的注入和磁场的约束,使得等离子体的稳定性大大提高。现在,EUV光源的输出功率波动已经控制在一个非常小的范围内,基本能够满足长时间光刻的需求。”姜老详细地介绍着。

林宇仔细观察着仪器上的数据,脸上露出了满意的笑容:“姜老,您和您的团队真是太厉害了。这对我们公司来说是一个巨大的突破。”